檢測認(rèn)證人脈交流通訊錄
ETD-2000Ⅲ/3000Ⅲ 三靶小型離子濺射鍍膜機(jī)
- ETD-2000Ⅲ/3000Ⅲ 離子濺射儀:依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的,最簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。他相對于ETD-2000/3000的特別之處是在一個真空室內(nèi)設(shè)計安裝了三個靶。旋轉(zhuǎn)樣品臺,可以依次在同一樣品上涂覆三種材料。適用于實驗室的各種復(fù)合膜樣品制備,及非導(dǎo)體材料實驗電極制作。
配置參數(shù)如下:
靶(上部電極):直徑:45mm,厚度:0.12mm
真空樣品室: 直徑:160mm,高:120mm
樣品臺高度調(diào)節(jié):手動調(diào)節(jié)
濺射面積: Ф45mm,三區(qū)域
真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar
離子電流表: 最大電流:50mA(100mA)
定時器: 最長時間:900S
微型真空氣閥: 可連接φ3mm軟管
可通入氣體: 多種
最高電壓: -1600(-3000)DCV
機(jī)械泵: 2L/S
樣品表面離子清潔(選配)
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