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FA-2000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

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    • FA-2000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(北京，上海，深圳，成都，西安均有辦事處提供服務(wù)) 主要用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械、新材料、能源等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。 應(yīng)用: 器件/IC 的表面打開及內(nèi)部鈍化層的去除。 主要特征： 1 用戶有好界面: 系統(tǒng)的狀態(tài)、無限的程序存儲(chǔ)和屏顯示過程都是標(biāo)準(zhǔn)的配置 2 優(yōu)秀的腔體設(shè)計(jì): 四方的進(jìn)氣模塊為反應(yīng)氣體提供了均一的導(dǎo)電系數(shù)和對(duì)晶元較高的刻蝕速率 3 13.56兆赫300瓦的射頻發(fā)生器 4 6吋的電極可以容納最大150毫米的晶園 5 微處理器控制，無限存儲(chǔ)量 6 10.4吋薄膜晶體管顯示器, 結(jié)果可打印機(jī)及傳到外接顯示器.

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