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深圳維爾克斯光電有限公司

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維爾克斯光電提供磁光測(cè)量儀器 磁光克爾效應(yīng)測(cè)量儀 NEOARK代理

  • 這真不是您需要的產(chǎn)品？
  • 品　　牌：
  • NEOARK
  • 主要規(guī)格：
  • 磁域觀測(cè)顯微鏡（Kerr顯微鏡，磁光克爾效應(yīng)顯微鏡）
  • 用　　途：
  • 測(cè)量磁光克爾效應(yīng)
    • 維爾克斯光電提供磁光測(cè)量儀器 磁光克爾效應(yīng)測(cè)量儀 NEOARK代理。維爾克斯光電專業(yè)代理NEOARK磁光測(cè)量系統(tǒng)，磁光克爾效應(yīng)測(cè)量儀，Magneto-Optical Product。磁光測(cè)量主要包括磁光克爾效應(yīng)測(cè)量（μ-Kerr Effect）、磁滯回線測(cè)量和法拉第效應(yīng)測(cè)量。 日本NEOARK公司成立于1976年，是一家專業(yè)從事精密儀器儀表、激光器的高科技公司，在磁光測(cè)試領(lǐng)域擁有雄厚的技術(shù)實(shí)力。Neoark公司 產(chǎn)品產(chǎn)品范圍包括：激光光源，激光測(cè)量（激光掃描儀、激光光譜分析儀、功率計(jì)、激光探測(cè)器），激光打標(biāo)，位移測(cè)量儀，振動(dòng)儀，激光微處理器，激光直接光刻系統(tǒng)，磁光/偏振特性測(cè)量等。其中以碘穩(wěn)頻激光器和磁光測(cè)量儀器最為出名。維爾克斯光電專業(yè)代理NEOARK磁光測(cè)量儀器在中國市場(chǎng)的銷售。 磁光效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng) Magneto-Optical Effect Measurement System 維爾克斯光電提供磁光測(cè)量儀器 磁光克爾效應(yīng)測(cè)量儀 NEOARK代理 關(guān)鍵詞：磁光克爾效應(yīng) 磁滯回線測(cè)量： 極性克爾效應(yīng)（垂直磁化） 縱向克爾效應(yīng)（平面磁化） 克爾效應(yīng)測(cè)量顯微鏡 低溫 法拉第效應(yīng)測(cè)量 垂直磁各向異性分析（磁場(chǎng)應(yīng)用的角度依賴性） 在平面磁各向異性分析（磁場(chǎng)應(yīng)用的角度依賴性） 在平面的傾斜角度評(píng)價(jià) 磁域觀測(cè)顯微鏡（Kerr顯微鏡，磁光克爾效應(yīng)顯微鏡） 應(yīng)用：顯微鏡磁域觀察 極克爾效應(yīng)（垂直磁化） 縱向克爾效應(yīng)（平面磁化） 低溫 磁光效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng) 關(guān)鍵詞：磁滯回線測(cè)量 晶圓 磁記憶 硬盤磁頭 磁傳感器 硬盤 垂直磁記錄介質(zhì) 軟襯層（SUL） 頭裝置 熱輔助磁記錄（HAMR）硬盤媒體 μ-Kerr Effect Measurement And Magnetic Domain Observation System BH-PI7892 Series μ-Kerr Effect Measurement System BH-PI920 Series Features Microscopic Local Magnetic Property Analysis based on both Polar and Longitudinal Kerr Effect(Not simultaneous measurement) Suitable for sensitive analysis of μm size magnetic pattern and magnetic thin film Specification Measurement Subject: Magneto-Optical Kerr Effect (Polar and Longitudinal Kerr Effect) Main Function: Kerr Loop Measurement Light Source: Diode Laser Probe Light Spot: φ2-5μm Generating Magnetic Field: Max. ±10kOe (1T) *Option: In-Plane Electromagnet μ-Kerr Effect Measurement and Magnetic Domain Observation System BH-PI7892 Series μ-Kerr Effect Measurement and Magnetic Domain Observation System BH-PI7892 Series Longitudinal Kerr Effect Measurement System BH-618 Series Faraday Effect Measurement System BH-620 Series Perpendicular Magnetic Anisotropy Analysis Features Magneto-Optical Kerr Effect with motorized rotating Electromagnet for Magnetic Field Applied Angle Dependence Analysis In-Plane Magnetic Anisotropy & Skew Angle Analysis *Magnetic Field Application Angle Dependence Analysis (Magnetic Field Application Direction: In-Plane Direction) “For Wafer” Perpendicular Magnetic Layer Evaluation System Model: BH-810CPC25WF12 Features Specially Designed for evaluation of Perpendicular Magnetic Layer of 12 Inch Wafer Specification Main Function: Kerr Loop Measurement and Mapping Measurement (Polar Kerr Effect) Light Source: Diode Laser Probe Light Spot Size: φ1mm (Typ.) Generating Magnetic Field: Max. ± 25Oe (2.5T) “For Wafer” In-Plane Magnetic Layer Evaluation System Model: BH-618SK-12 “For Hard Disc” Perpendicular Magnetic Recording Layer Evaluation System Model: BH-810CPC “For Hard Disc” Soft Under Layer (SUL) Evaluation System Model: BH-618HS Features: Specially Designed for evaluation of Soft Under Layer (SUL) of both 2.5 inch and 3.5 Inch Hard Disk Magnetic Domain Observation Microscope BH-786 Series Features Magnetic Domain Observation Microscope (Kerr Microscope) with various optional magnification and magnetic field Specification Observation Subject: Magneto-Optical Kerr Effect (Polar and Longitudinal Kerr Effect) Main Function: CCD Camera Observation and Image Capturing Light Source: Mercury Lamp Observation Resolution: 1μm (Typ.) with x50 Objective Lens Observation Area: 100 x 70μm with x50 Objective Lens Generating Magnetic Field: > ± 10kOe (1T) *Option: In-Plane Electromagnet and Others Low Temperature Magnetic Domain Observation Microscope BH-7850 Series

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