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檢測認(rèn)證人脈交流通訊錄

低溫濺射小型磁控濺射儀

  • 這真不是您需要的產(chǎn)品？
  • 品　　牌：
  • 主要規(guī)格：
  • 用　　途：
    • 一、產(chǎn)品應(yīng)用： JS-600M低溫濺射小型磁控濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，帶磁控靶頭，有水冷功能。設(shè)備操作簡單方便，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。 磁控濺射為冷濺射，對樣品表面的升溫較低，適用對溫度較敏感的薄膜樣品。用戶可以根據(jù)自己的需要自行選擇不同的真空條件，濺射電流。大尺寸的真空腔體設(shè)計(jì)，滿足大樣品的濺射需求。標(biāo)配一片金靶，純度為99.999%，為獲得高質(zhì)量的金膜提供了良好的基礎(chǔ)。 二、配置及技術(shù)指標(biāo)： 1.本系統(tǒng)裝配了水冷卻磁控靶，靶面直徑為50mm； 2.主機(jī)規(guī)格：L360mm*W300mm*H380mm； 3.靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.1mm； 4.真空樣品室：直徑：160mm，高：110mm； 5.濺射面積：Ф50mm； 6.工作真空：2×10-1—6×10-2 mbar； 7.離子電流表：0-100mA； 8.定時器：根據(jù)濺射習(xí)慣設(shè)定單次濺射時間； 9.針閥： 配有進(jìn)氣口，微量充氣調(diào)節(jié)，可連接φ4*2.5mm軟管； 10.工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣等多種氣體； 11.濺射電壓：-1600 DCV； 12.飛躍真空泵（VRD-4）：1.1L/S。 三、JS-600M低溫濺射小型磁控濺射儀產(chǎn)品特點(diǎn)： 1.輕便、濺射面積大； 2.可以濺射鉑、金及銀等金屬； 3.濺射效率高，可水冷降溫； 備注：JS-600M小型磁控濺射儀可適用的靶材：金、鉑、銀。 了解更多：http://www.saintins.com/Products-37429972.html https://www.chem17.com/st538609/erlist_2401778.html

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