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上海昊量光電設(shè)備有限公司

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  • 品　　牌：
  • 美國Hinds Instruments公司
  • 主要規(guī)格：
  • DMD無掩膜光刻機
  • 用　　途：
    • DMD無掩膜光刻機 昊量供 上海DMD無掩膜光刻機 DMD無掩膜光刻機價格 AU-PALET光刻機是一款緊湊的DMD式無掩膜光刻機擁有高速、廣范圍、低價格、高分辨率、操作簡單和可靠性高等特點。 DMD式無掩膜光刻機無需制造掩膜，采用DMD數(shù)字掩膜,可在抗蝕劑內(nèi)曝光所希望的任意圖案。無掩膜光刻機可以讀取任何CAD數(shù)據(jù)，除此之外DMD式無掩膜光刻機還可以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式無掩膜光刻機使用365nmLED光源，降低價格的同時實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。采用10倍物鏡，一次曝光面積可達1mm′0.6mm，曝光時間僅需1s。結(jié)合電動移動平臺，可實現(xiàn)曝光拼接，分辨率可達到3mm?？赏ㄟ^公司編寫的軟件完成詳細設(shè)定，使操作簡潔方便。 與傳統(tǒng)的光刻機不同，AU-PALET光刻機采用DMD數(shù)字掩膜光刻技術(shù)，無需制造掩膜。大大降低了時間和成本。無掩膜光刻機可以讀取任何創(chuàng)建的CAD文件，直接進行光刻。除了CAD文件，還可以讀取豐富的其它格式的數(shù)據(jù)，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。 AU-PALET DMD式無掩膜光刻機采用短波段的LED燈為光源，相對于其它的光源，擁有更高的穩(wěn)定性和更長的壽命，降低價格的同時實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。AU-PALET 無掩膜光刻機為面曝光，采用10倍的物鏡，一次曝光面積可達到1mm′0.6mm，結(jié)合電動平移臺可實現(xiàn)曝光拼接，可達到更大的曝光面積?？赏ㄟ^公司編寫的軟件完成簡單操作和詳細設(shè)定，操作簡潔方便。 上海昊量光電設(shè)備有限公司推出的DMD式無掩膜光刻機有兩種。 ① AU-PALET是一款快速光刻的無掩膜光刻機。本裝置采用375nm的LED光源，實現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光，并且擁有更高的穩(wěn)定性和更長的壽命。采用10′的物鏡曝光面積達到1mm′0.6mm，光刻分辨率達到5mm，并在10s 內(nèi)完成曝光。 ②AU-PALET-_new 是AU-PALET的升級版本，在光源上采用波長更短的365nm的LED燈作為光源，采用10′的物鏡曝光面積達到1mm′0.6mm，光刻分辨率達到3mm，并在1s 內(nèi)完成曝光。 u 主要特點 l 高速度（1s） l 廣范圍（1′0.6mm） l 365nm LED光源 l 高分辨率 （3mm） l 成本低 u 主要應(yīng)用 磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成 傳感器，半導(dǎo)體器件的制作 MEMS器件的試制、 光電子，LED的試制 微流體器件的試制 掩膜版制作 細胞分離通道等的制作 光波導(dǎo)路的制作

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