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離子濺射儀

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    •   離子濺射儀   技術(shù)方案   1、采用平面磁控濺射靶頭進行靶材濺射,以確保工作過程樣品不會發(fā)生熱損傷;   2、采用ARM作為處理器,全自主知識產(chǎn)權(quán),擴展性好,可選配:  ?。?)膜厚監(jiān)控組件:可預(yù)設(shè)期望鍍膜厚度,在工作過程中精確控制鍍膜厚度;  ?。?)樣品臺加熱組件:可通過加熱提高膜層的致密性以及與基地的結(jié)合力。   3、7英寸觸摸式液晶顯示屏,分辨率為800×480,全數(shù)字顯示。   3.1)可設(shè)定:  ?。?)濺射電流;  ?。?)濺射時間;  ?。?)靶材種類;  ?。?)工作真空度;  ?。?)工作氣體;   (6)屏幕亮度等參數(shù);   3.2)可顯示:   (1)濺射電流;  ?。?)濺射剩余時間;  ?。?)工作真空度;  ?。?)靶材累計使用時間;  ?。?)設(shè)備累計使用時間等參數(shù)。   4、濺射電流:2-100mA連續(xù)可調(diào),最小步長為1mA;   5、濺射時長:1-999s連續(xù)可調(diào),最小步長為1s;   6.濺射真空:4-20Pa連續(xù)可調(diào),最小步長為0.1Pa;   7、濺射靶材:標配為高純鉑靶(純度4N9),規(guī)格為φ57×0.12mm;也可使用金、銀、銅、金鈀合金等金屬作為濺射靶材;   8、真空室:采用高透光性的高硅硼玻璃,尺寸約為φ200×130mm;   9、樣品臺:可自轉(zhuǎn)的不銹鋼樣品臺,直徑為φ125mm,轉(zhuǎn)速4-20rpm可調(diào);   10、靶材參數(shù):系統(tǒng)提供金、鉑、銀、銅對于空氣和氬氣的工作參數(shù),可直接使用。同時提供4種自定義靶材,用戶可根據(jù)自己需求設(shè)定工作參數(shù);   11、預(yù)濺射:具有全自動控制的預(yù)濺射擋板,確保工作過程穩(wěn)定可靠;   12、一鍵操作:系統(tǒng)可自動完成抽氣、充氣、參數(shù)調(diào)整、預(yù)濺射、濺射鍍膜等工作過程;濺射完成后,關(guān)閉真空泵,系統(tǒng)自動充氣使真空室內(nèi)外壓力平衡;   13、具備濺射電流和真空度雙重互鎖,安全可靠,任一條件觸發(fā),系統(tǒng)即可停止工作,防止因為誤操作導致設(shè)備損壞;   14、系統(tǒng)采用皮拉尼真空規(guī)作為真空測量元件;   15、極限真空優(yōu)于1Pa,真空泵抽速為1.1L/s;   16、具備實時曲線顯示濺射電流和真空度功能非常方便用戶了解系統(tǒng)工作狀態(tài);   17、采用獨特的靶材更換結(jié)構(gòu),無需任何工具,即可實現(xiàn)快速更換靶材;   18、儀器供電:AC220±10%V,額定功率500W、   https://www.chem17.com/st506164/product_38092308.html   http://www.gevee-tech.com.cn/product/424.html
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