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射頻磁控濺射鍍膜儀

  • 這真不是您需要的產(chǎn)品？
  • 品　　牌：
  • 主要規(guī)格：
  • 用　　途：
    • 　　射頻磁控濺射鍍膜儀 　　主要應(yīng)用于配套掃描電鏡的樣品制備工作，同時(shí)可以滿足不同用戶對(duì)樣品涂層的制備要求。擁有優(yōu)秀的濺射系統(tǒng)，可以更換不同的金屬靶材（金，鉑，銀，銥，鉻，銅等），實(shí)現(xiàn)高要求的細(xì)粒涂層。GVC系列為您提供優(yōu)質(zhì)的樣品制備，輕松助您取得更好地材料研究樣品， 獲得高質(zhì)量的顯微鏡觀測(cè)效果。 　　GVC-1000 全自動(dòng)離子濺射儀(射頻磁控濺射鍍膜儀)性能參數(shù) 　　1、離子濺射儀工作原理：磁控濺射 　　2、可選靶材：金，鉑，金鈀合金，鉛，銀，銅，鉻，銻等 　　3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃 　　4、全自動(dòng)操作，簡(jiǎn)單易用，非常適用鎢燈絲、臺(tái)式掃描電鏡等 　　（1）濺射電流自動(dòng)調(diào)整——設(shè)定濺射電流后，系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)真空度，從而達(dá)到設(shè)定的濺射電流，調(diào)整時(shí)間＜5s，波動(dòng)范圍＜±5%； 　?。?）無需按“實(shí)驗(yàn)”鍵調(diào)整濺射電流、無需操作“進(jìn)氣閥”。 　?。?）濺射時(shí)間自動(dòng)記憶——同類樣品一次設(shè)定即可； 　?。?）參數(shù)改變自動(dòng)調(diào)整——濺射過程中可以隨時(shí)調(diào)整濺射電流和濺射時(shí)長(zhǎng)，系統(tǒng)自動(dòng)計(jì)算疊加，無需終止濺射過程； 　　（5）工作完成自動(dòng)放氣； 　?。?）樣品臺(tái)高度調(diào)節(jié)1秒完成； 　?。?）濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀。 　?。?）極限真空：小于1Pa 　　5、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠 　?。?）真空度高于100Pa，啟動(dòng)真空保護(hù)，無法濺射； 　　（2）濺射電流高于50mA，停止濺射過程； 　?。?）真空泵工作時(shí)，系統(tǒng)無法進(jìn)行放氣操作； 　　6、鍍層均勻，導(dǎo)電性良好。 　　https://www.chem17.com/st506164/product_38091672.html 　　http://www.gevee-tech.com.cn/product/198.html

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