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無掩膜光刻

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    • Reshaping precision. 作為已被工業(yè)界認(rèn)可的Nanoscribe公司推出的Quantum X平臺(tái)的二代加工系統(tǒng)，Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)在3D微納加工領(lǐng)域擁有驚人的高精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ?)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其最高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制。 Reshaping output. Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)不僅是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具，同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡(jiǎn)易工具。 Reshaping usability. 通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來大大提高實(shí)用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進(jìn)行打印文件的遠(yuǎn)程監(jiān)控及多用戶的使用配置，實(shí)現(xiàn)推動(dòng)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。 無掩膜光刻https://www.chem17.com/st425611/product_36502779.html https://www.chem17.com/st425611/erlist_1992288.html

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