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天津光譜儀——輝光放電

  • 這真不是您需要的產(chǎn)品？
  • 品　　牌：
  • 主要規(guī)格：
  • 輝光放電
  • 用　　途：
    • :::: 簡 介: ::::::::::::::::::::::::::::::::::::: 主要特點 1.涂（鍍）層材料和均相材料化學(xué)成分的分析，痕量和微量合金元素的檢測和測量 2.濃度分布測定和表層測量數(shù)據(jù)的定性/定量評價 3.測定被分析表面層內(nèi)部的相/相比 4.軟件基于Windows 2000環(huán)境，日常分析功能采用易用的軟件界面，使用戶能很快地熟悉儀器的使用 5.具有許多適于用戶的軟件功能選項，如顯示輸出、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式 儀器介紹 在金屬分析領(lǐng)域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析最理想的手段。表面處理工藝過程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂（鍍）層厚度及化學(xué)成分。 對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題，輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法。采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導(dǎo)體材料和涂層，如玻璃，陶瓷，釉質(zhì)和油漆涂層。 GDA750可以配備60個以上的分析通道，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂（鍍）層的深度可測量至200µm。表面分析和獲得的分辨率達1個原子層。分析軟件具有強大功能并且靈活易用；化學(xué)成分可以與其他特性，如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時測定。 通過比較涂（鍍）層工藝過程（CVD，PVD）前后的表面特性，確保生產(chǎn)工藝過程最佳化和最大程度地避免廢品浪費。GDA750也可用于塊狀樣品的分析（如金屬合金的化學(xué)成分），為復(fù)雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線。 采用可選的射頻輝光放電光源，GDA750可用于分析非導(dǎo)電性材料，如陶瓷，玻璃和油漆涂層。 如果您對天津光譜儀感興趣的話,可以聯(lián)系我們。
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    邢立祥

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