納米壓印光刻技術(shù)在晶體行業(yè)、光學(xué)行業(yè)的發(fā)展領(lǐng)域及其廣闊:
1.晶圓級(jí)光學(xué)加工:2017年發(fā)布的結(jié)構(gòu)光人臉識(shí)別技術(shù)第一次將微納光學(xué)元器件引入了消費(fèi)類電子領(lǐng)域,晶圓級(jí)光學(xué)器件加工的概念也逐漸映入人們的眼簾。
2.2019年高端智能手機(jī):3D傳感iTOF模組中的勻光片再次引入了納米壓印作為量產(chǎn)手段。
3.2020年AR衍射光波導(dǎo)光柵:加工將納米壓印技術(shù)的應(yīng)用推向面積更大的12英寸,納米壓印終于完成了從科研到大規(guī)模量產(chǎn)的華麗轉(zhuǎn)身。
4.納米壓印原始模具:加工方式有電子束直寫(xiě)、激光直寫(xiě)、光刻、刻蝕、電鍍、機(jī)加工等。如此來(lái)看,模具的潔凈度必須得到有效的保障。因不管是被使用還是自身的制作都是高要求。
5.威固特VGT-1507FT光學(xué)級(jí)超聲波清洗設(shè)備用途:清洗納米模具、光學(xué)器件、晶圓表面粘附的灰塵及污染物;做到清洗后表面不得有油污及其他雜物,達(dá)到的清洗效率可以每天1班,每班12H,清洗每籃節(jié)拍2-4分鐘可調(diào)(以實(shí)際干燥時(shí)間為準(zhǔn))。
深圳威固特VGT-1507FT光學(xué)級(jí)超聲波清洗機(jī)(整機(jī)共為15個(gè)功能槽):
原理:清洗過(guò)程中工件通過(guò)超聲波高頻產(chǎn)生的“氣化現(xiàn)象”的沖擊和系統(tǒng)自身不停地作上下運(yùn)動(dòng),增加了液體的摩擦,從而使工件表面的污垢能夠迅速脫落,實(shí)現(xiàn)其高清潔度的目的。
設(shè)備配置:循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)、浸泡系統(tǒng)、自動(dòng)恒溫系統(tǒng)、溢流系統(tǒng)、拋動(dòng)系統(tǒng)、超聲波清洗系統(tǒng)、慢拉脫水系統(tǒng)、熱風(fēng)烘干系統(tǒng)等。其中清洗部分與慢拉及熱風(fēng)干燥部份分別獨(dú)立電器控制,設(shè)備采用環(huán)保型有機(jī)溶劑洗滌、水溶劑洗滌、純水漂洗、慢拉脫水熱風(fēng)烘干,為自動(dòng)智能式清洗機(jī)。
整機(jī)分部的結(jié)構(gòu)配置系統(tǒng):
自動(dòng)上下料裝置:
為清洗中產(chǎn)生的油污及使用的清潔溶液設(shè)置的結(jié)構(gòu):
1.每槽設(shè)四面溢流口,溢水槽寬35mm,各槽皆為獨(dú)立循環(huán)槽,由循環(huán)泵將洗劑由儲(chǔ)液箱抽出經(jīng)過(guò)濾后再運(yùn)回清洗槽,即字母槽循環(huán)。
2.設(shè)置獨(dú)立循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)。
3.各槽底部設(shè)排液閥且互相串聯(lián)至總排管。
4.槽內(nèi)設(shè)溫度感應(yīng)器,溫控范圍:RT-100℃數(shù)顯可調(diào)。
5.槽外設(shè)置拋動(dòng)。
6.由隔板分成兩腔,分油后的清潔溶液經(jīng)循環(huán)泵重新抽入清洗槽,實(shí)現(xiàn)自我循環(huán),提高溶液的利用率,而分離后的油排放到總排管。
7.設(shè)市水進(jìn)口,可分別接至各洗槽及儲(chǔ)液箱。
8.配冷卻水管,由清洗槽內(nèi)溫度感應(yīng)器通過(guò)電磁閥控制加水。
9.配不銹鋼加熱管,功率4KW。
10.設(shè)下限液位開(kāi)關(guān),水位低時(shí)自動(dòng)聲光報(bào)警,報(bào)警器串聯(lián)。
11.儲(chǔ)液槽底部設(shè)排液閥,與清洗槽串聯(lián)同時(shí)排入總排管。
在超聲波清洗機(jī)中發(fā)生器起到的主力作用:
慢拉脫水槽、熱風(fēng)烘干槽、工件提升橫移機(jī)構(gòu)、拋動(dòng)機(jī)構(gòu)具備的功能優(yōu)勢(shì):